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〈一〉 流程: 磨板→贴膜→曝光→显影 一、磨板 1、表面处理 除去铜表面氧化物及其它污染物。 a. 硫酸槽配制 H2SO4 1-3%(V/V)。 b. 酸洗不低于10S。 2、 测试磨痕宽度 控制范围10 为宜。 3、水磨试验 每日测试水膜破裂时间≥15s,试验表明,在相同条件下磨痕宽度与水膜破裂时间成正比。 4、磨板控制 传送速度1.2 二、干膜房 1、干膜房洁净度10000级以上。 2、温度控制20 3、湿度控制60-70%,超出此温度范围也容易引起菲林变形。 4、工作者每次进入干膜房必须穿着防尘服及防尘靴风淋15-20s。 三、贴膜 1、贴膜参数控制 a. 温度100 b. 速度< c. 压力30-60Psi,一般控制40Psi左右。 2、注意事项 a. 贴膜时注意板面温度应保持38 b. 贴装前须检查板面是否有杂物、板边是否光滑等,若板边毛刺过大会划伤贴膜胶辊,影响使用寿命。 c. 在气压不变情况下,温度较高时可适当加快传送速度,较低时可适当减慢传送速度,否则会出现皱 膜或贴膜不牢,图形电镀时易产生渗镀。 d. 切削干膜(手动贴膜机)时用力均匀,保持切边整齐,否则显影后出现菲林碎等缺陷。 e. 贴膜后须冷却至室温后方可进行曝光。 四、曝光 1、光能量 a. 光能量(曝光灯管5000W)上、下灯控制40-100毫焦/平方厘米,用下晒架测试上灯,上晒架测试 下灯。 b. 曝光级数7-9级覆铜(Stoffer 21级曝光尺),一般控制8级左右,但此级数须显影后才能反映出来, 因此对显影控制要求较严。 2、真空度 大于69CMHG,否则易产生虚光线细现象。 3、赶气 赶气须在真空度大于69CMHG以上且赶气力度要均匀,否则会产生焊盘与孔位偏移,造成崩孔现象。 4、曝光 曝光时轻按快门,曝光停止后须立即取出板件,否则灯内余光长时间曝光,造成显影后出现板面余胶。 五、显影参数控制 1、温度30± 2、Na2CO3浓度 1±0.2% 3、喷淋压力 1.5 4、水洗压力 1.5 5、干燥温度 45~ 6、传送速度 显影点50±5%控制 六、重氮片 1、重氮片曝光 5000W曝光灯管,曝光能量:21级曝光尺1~2格透明。 2、重氮片显影 20%氨水、温度控制48~ 3、影响重氮片质量因素及防止 a. 线细 ①由光反射及衍射造成;可用纯黑色不反光平底板垫于重氮片下进行曝光消除此现象。 ②曝光能量过强;适当降低曝光能量。 b. 显影后出现斑点(俗称鬼影)曝光能量不足,适当延长曝光时间。 c. 颜色偏淡 由以下因素构成 ①温度不够;待调整温度升至范围值再显影。 ②氨水过期,浓度降低,更换氨水。 ③显影时间太短;重新显影2-3遍。 ④重氮片曝光后放置时间较长;线路部分已曝光,废弃重做。 〈二〉常见的故障及排除方法: 在使用干膜进行图像转移时,由于干膜本身的缺陷或操作工艺不当,可能会出现各种质量 问题。下面列举在生产过程中可能产生的故障,并分析原因,提出排除故障的方法。 1、干膜与覆铜箔板粘贴不牢
2>干膜与铜箔表面之间出现气泡
3>干膜起皱
4>有余胶
5>显影后干膜图像模糊,抗蚀剂发暗发毛
6>镀层与基体结合不牢或图像有缺陷
7>镀铜或镀锡铅有渗镀
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